真空镀膜和其他镀膜方式相比较具有哪些特点呢？现在由电镀加工厂的小编和大家说说具体有哪些特点：
1.真空镀膜可以在固态基体上镀制金属，合金，半导体薄膜及各种化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范围内调控。
2.真空镀膜可以镀制高纯度，高致密度，与基体结合力强的各种功能薄膜拜。特别是各种金属五金产品，大规模集成电路，小分子有机显示器件等很多器件所需的主体薄膜只能在真空条件下制备，其他制模技术无法满足要求。
3.真空镀膜对环境无污染，特别是PVD方法。
4.真空镀膜是需要有真空设备来完成的镀膜，所以成本比较高，但真空镀膜产品耐磨性好，耐腐蚀，环保，产品可过ROHS测试。